Физика и техника полупроводников

Авторам

Правила оформления публикаций

Вышедшие номера

2024
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9
2023
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9
2022
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2021
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2020
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2019
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2018
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13
2017
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2016
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2015
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2014
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2013
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2012
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2011
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2010
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2009
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2008
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2007
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2006
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2005
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2004
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2003
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2002
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2001
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2000
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1999
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1998
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1997
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1996
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1995
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1994
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1993
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1992
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1991
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1990
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1989
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
1988
- 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12

Эффекты нитридирования поверхности подложек LiGaO₂ в молекулярно--лучевой эпитаксии.

Cheng T.S.¹, Новиков С.В.¹, Foxon C.T.¹

¹Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия Ioffe Institute, St. Petersburg, Russia

Поступила в редакцию: 29 марта 1996 г.

Выставление онлайн: 20 мая 1996 г.

PDF версия

Абстракт
Литература
Статистика просмотров

В работе исследованы эффекты нитридирования поверхности подложек LiGaO₂, являющихся перспективными для создания приборов на основе нитридов металлов III группы. Нитридирование подложек в установке для молекулярно-лучевой эпитаксии изучалось с использованием методик дифракции быстрых электронов и оже-электронной спектроскопии. Установлено образование тонкого слоя (порядка 100/200 Angstrem) нитридированного материала на поверхности подложек LiGaO₂, что позволяет обеспечить хороший буферный слой для последующего роста эпитаксиальных слоев нитридов металлов III группы.

S. Strite, H. Morkoc. J. Vac. Sci. Technol., B10, 1237 (1992)
M. Marezio. Acta Cryst., 18, 481 (1965)
H. Neumann, E. Pirl, G. Kuhn. J. Mater. Sci. Letters, 6, 495 (1987)
C.T. Foxon, T.S. Cheng, S.V. Novikov, D.E. Lacklison, L.C. Jenkins, D. Johnston, J.W. Orton, S.E. Hooper, N. Baba-Ali, T.L. Tansley, V.V. Tret`yakov. J. Crystal Growth, 150, 892 (1995)
T.S. Cheng, L.C. Jenkins, S.E. Hooper, C.T. Foxon, J.W. Orton, D.E. Lacklison. Appl. Phys. Lett., 66, 1509 (1995)
S.E. Hooper, C.T. Foxon, T.S. Cheng, L.C. Jenkins, D.E. Lacklison, J.W. Orton, T. Bestwick, A. Kean, M. Dawson, G. Duggan. J. Crystal Growth, 155, 157 (1995)
I.F. Ferguson, D.R. Masters, M. Turek. \it Pamphlet, May 1983, ND-R-463(S), C14, (Warrington WA3 6AT UK, Risley Nuclear Power Development Establishment, 1983)
R.E. Clausing, D.S. Easton, G.L. Powell. Surface Science, 36, 377 (1973)
G.L. Powell, R.E. Clausing, G.E. McGuire. Surface Science, 49, 310 (1975)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель