Особенности механизма переноса заряда в структурах на основе тонких слоев триселенида мышьяка, модифицированных висмутом
Анисимова Н.И.1, Бордовский В.А.1, Грабко Г.И.1, Кастро Р.А.1
1Российский государственный педагогический университет им. А.И. Герцена, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 30 ноября 2009 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2010 г.
Проведено исследование влияния количества вводимой примеси висмута на процессы переноса и накопления заряда в аморфных слоях As2Se3. Обнаружена связь между релаксационными процессами переноса и изменением внутренней структуры исследуемых материалов. В изученных слоях определены физические параметры, характеризующие протекающие электронные процессы: контактная емкость, плотность локализованных состояний, ответственных за аккумуляцию зарядов в контактной области, постоянная зарядки контактной области, подвижность носителей зарядов. Обсуждаются механизмы наблюдаемых эффектов.
- М. Ламперт, П. Марк. Инжекционные токи в твердых телах (М., Мир, 1973)
- Б.Л. Тимман. ФТП, 7 (2), 225 (1973)
- Б.Л. Тиман, А.П. Карпова. ФТП, 7 (2), 230 (1973)
- А.М. Андриеш, М.Р. Черний. В сб.: Кристаллические и стеклообразные полупроводники (Кишинев, Штиинца, 1977) с. 127
- Г.Б. Абдуллаев, Б.Г. Тагиев, С.Н. Мустафаева, И.А. Гасанов, Т.Х. Азизов, Э.Н. Ибрагимова. ФТП, 14 (9), 1817 (1980)
- С.Н. Мустафаева, С.Д. Мамедбейли, М.М. Асадов, И.А. Мамедбейли, К.М. Ахмедли. ФТП, 30 (12), 2154 (1996)
- В.Т. Аванесян, В.А. Бордовский, Р.А. Кастро. ФТП, 31 (11), 1340 (1997)
- В.Т. Аванесян, Г.А. Бордовский, Р.А. Кастро. ФХС, 26 (3), 369 (2000)
- Электронные явления в халькогенидных стеклообразных полупроводниках, под ред. К.Д. Цэндина (СПб., Наука, 1996)
- Н. Мотт, Э. Дэвис. Электронные процессы в некристаллических веществах (М., Мир, 1982)
- В.Т. Аванесян, В.А. Бордовский, Р.А. Кастро. ФХС, 26 (3), 420 (2000)
- M. Pollak, I. Riess. J. Phys. C: Sol. St. Phys., 9 (12), 2339 (1976)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.