Вышедшие номера
Возможность получения пленок (GaSb)1-x(Si2)x на кремниевых подложках методом жидкофазной эпитаксии
Усмонов Ш.Н.1, Саидов А.С.1, Лейдерман А.Ю.1, Сапаров Д.1, Холиков К.Т.1
1Физико-технический институт им. С.В. Стародубцева Академии наук Республики Узбекистан, Ташкент, Узбекистан
Поступила в редакцию: 12 января 2009 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2009 г.

Показана возможность выращивания непрерывного твердого раствора (GaSb)1-x(Si2)x (x=0-1) на кремниевых подложках методом жидкофазной эпитаксии из оловянного раствора-расплава. Исследованы рентгенограммы, спектральные и вольт-амперные характеристики полученных структур p-Si-n-(GaSb)1-x(Si2)x в интервале температур 20-200oC. На вольт-амперных характеристиках обнаружен протяженный участок типа V propto exp(JaW), соответствующий эффекту инжекционного обеднения. PACS: 73.40.Kp, 78.20.-e, 78.66.Fd, 81.40.Tv