Вышедшие номера
Восстановление профиля потенциала в изолирующем слое по вольт-амперным характеристикам туннельных МДП диодов
Гольдман Е.И.1, Ждан А.Г.1, Кухарская Н.Ф.1, Черняев М.В.2
1Институт радиотехники и электроники Российской академии наук, Фрязино, Россия
2ОАО "НИИМЭ и Микрон", Зеленоград, Россия
Поступила в редакцию: 5 марта 2007 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2007 г.

Развит метод восстановления профиля потенциала в изолирующем слое по полевым зависимостям туннельного тока сквозь него. Из туннельных вольт-амперных характеристик в квазиклассическом приближении определяются значения координат точек поворота как функций напряжения на диэлектрическом промежутке, и по этим зависимостям параметрически строится потенциал. Развитый алгоритм использован в отношении структуры n+-Si-SiO2-n-Si с толщиной окисла 37 Angstrem. Для реального потенциального рельефа в SiO2 характерны относительно толстые слои (~ 10 Angstrem) с пониженным значением потенциала, отделяющие Si от собственно барьера, ограничивающего туннелирование электронов. PACS: 73.40.Gk, 73.40.Qv, 73.40.Rw, 85.30.Mn