Вышедшие номера
Фазовые и структурные изменения в многослойных контактах к n-GaAs, стимулированные быстрыми термическими обработками
Болтовец Н.С.1, Иванов В.Н.1, Конакова Р.В.2, Литвин П.М.2, Литвин О.С.2, Миленин В.В.2, Прокопенко И.В.2
1Государственное предприятие Научно-исследовательский институт Орион, Киев, Украина
2Институт физики полупроводников им. В.Е. Лашкарева Национальной академии наук Украины, Киев, Украина
Поступила в редакцию: 10 сентября 2002 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2003 г.

Исследовались фазовые, структурные и электрофизические свойства многослойных контактных систем Au-Mo-TiBx-AuGe-GaAs, используемых в технологическом процессе формирования диодов Ганна на основе GaAs. До и после быстрых термических обработок в атмосфере водорода при T=400, 600 и 800oC в течение 60 с исследовались: фазовый состав и уровень остаточных механических напряжений методом рентгеновской дифракции; морфологические особенности поверхности пленок золота - методом атомно-силовой микроскопии; вольт-амперные характеристики в области слабого электрического поля. Показано, что вплоть до температуры отжига T=600oC сохраняются буферные свойства TiBx. Установлена роль внутренних механических напряжений в деградации омических контактов Au-Mo-TiBx-AuGe-GaAs.