Формирование барьера в гетероструктуре <собственный окисел>--p-InSe. Электрические и фотоэлектрические свойства
Драпак С.И.1, Орлецкий В.Б.1, Ковалюк З.Д.1, Нетяга В.В.1
1Институт проблем материаловедения им. И.Н. Францевича Национальной академии наук Украины, Черновицкое отделение, Черновцы, Украина
Поступила в редакцию: 13 февраля 2002 г.
Выставление онлайн: 20 января 2003 г.
На основе комплексного исследования электрических и фотоэлектрических свойств, а также шумовых характеристик гетероструктур <собственный окисел>-p-InSe прослежена динамика формирования барьера в зависимости от температурных и временных режимов окисления. Установлено, что в структурах, окисленных на протяжении =<sssim30 мин при T=400oC, происходит формирование барьера. При увеличении времени окисления до 60 мин барьер в основном сформирован, причем пленка окисла двухслойная с различным химическим составом на поверхности и на границе раздела. Наибольшие значения отношения сигнал/шум получены при полуторачасовом окислении базового материала (T=400oC) в основном из-за малых значений темнового тока, которые реализуются в таких структурах благодаря развитию достаточно однородной высокоомной прослойки. При окислении p-InSe более 100 мин состав окисла становится однородным, однако при этом изменяется тип проводимости базового полупроводника, что приводит к уменьшению высоты барьера, увеличению темнового тока и, как следствие, ухудшению фотоэлектрических параметров.
- A. Koma. J. Cryst. Growth., 201--202, 236 (1999)
- И.В. Боднарь, В.Ф. Гременок, В.Ю. Рудь, Ю.В. Рудь. ФТП, 33, 805 (1999)
- В.Ю. Рудь, Ю.В. Рудь, В.Х. Шпунт. Письма ЖТФ, 25, 76 (1999)
- H. Iwakuro, C. Tatsuyama, S. Ichimura. Jap. J. Appl. Phys., 21, 94 (1982)
- I. Miyake, T. Tanpo, C. Tatsuyama. Jap. J. Appl. Phys., 23, 172 (1984)
- В.Н. Катеринчук, М.З. Ковалюк. Письма ЖТФ, 18, 70 (1992)
- В.Н. Катеринчук, М.З. Ковалюк, А.Д. Огородник. Неорг. матер., 32, 827 (1996)
- O.A. Balitskii, R.V. Lutsiv, V.P. Savchun, J.M. Stakhira. Mater. Sci. Eng. B, 56, 5 (1998)
- V.P. Savchun, J.M. Stakhira. Phys. St. Sol. (a), 156, 113 (1996)
- В.Н. Катеринчук, М.З. Ковалюк. Письма ЖТФ, 23, 1 (1997)
- В.Н. Катеринчук, З.Д. Ковалюк, А.В. Заслонкин. Письма ЖТФ, 25, 34 (1999)
- J.M. Stakhira, V.P. Savchun, V.B. Kytsay. Mol. Phys. Rep., 23, 184 (1999)
- V.P. Savchun, V.B. Kytsay. Thin Sol. Films, 361--362, 123 (2000)
- O.A. Balitskii, N.N. Berchenko, V.P. Savchun, J.M. Stakhira. Mater. Cem. Phys., 65, 130 (2000)
- В.Н. Катеринчук, З.Д. Ковалюк, Т.В. Беца, В.М. Каминский, В.В. Нетяга. Письма ЖТФ, 27, 62 (2001)
- O.A. Balitskii, V.P. Savchun, V.O. Yukhymchuk. Semicond. Sci. Technol., 17, L1 (2002)
- A, Chevy, A. Kuhn, M.-S. Martin. Cryst. Growth., 38, 118 (1977)
- T. Nakao, T. Nakada, Y. Nakayama, K. Miyanati, Y. Kimura, Y. Saito, C. Saito. Thin Sol. Films, 370, 155 (2000)
- A. Segura, J.P. Guesdon, J.M. Besson, A.J. Chevy. Appl. Phys., 54, 876 (1983)
- П.Т. Орешкин. Физика полупроводников и диэлектриков (М., Высш. шк., 1977)
- N.B. Lukyanchikova, A.A. Konoval, M.K. Sheinkman. Sol. St. Electron., 18, 65 (1975)
- Н.Б. Лукъянчикова. Лит. физ. сб., 20, 25 (1980)
- Н.Б. Лукъянчикова. Электронная промышленность, 6, 28 (1983)
- C. Julien, M. Eddrief, M. Balkanski, E. Hatriricraniotis, K. Kambas. Phys. St. Sol., (a), 88, 687 (1985)
- M.A. Lambert. Phys. Rev., 103, 1648 (1959)
- C.M. Martinez-Tomaz, V. Munoz, M.V. Andres, A. Segura, A. Chevy. Condens. Matter., 91, 25 (1993)
- В.Л. Бакуменко, В.Ф. Чишко. ФТП, 11, 2000 (1977)
- Ю.А. Гольдберг, О.В. Иванова, Т.В. Львова, Б.В. Царенков. ФТП, 18, 1472 (1984)
- А.А. Лебедев, А.А. Лебедев, Д.В. Давыдов. ФТП, 34, 113 (2000)
- Z.D. Kovalyuk, V.B. Orletskii, I.M. Budzulyak, V.V. Netyaga. J. Phys. Studies, 5, 43 (2001)
- Б.Л. Шарма, Р.К. Пурохит. Полупроводниковые гетеропереходы (М., Сов. радио, 1979)
- В.И. Стриха. Контактные явления в полупроводниках (Киев, Высш. шк., 1982)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.