Вышедшие номера
Фазово-структурные превращения в пленках SiOx в процессе вакуумных термообработок
Лисовский И.П.1, Индутный И.З.1, Гненный Б.Н.1, Литвин П.М.1, Мазунов Д.О.1, Оберемок А.С.1, Сопинский Н.В.1, Шепелявый П.Е.1
1Институт физики полупроводников Национальной академии наук Украины, Киев, Украина
Поступила в редакцию: 25 марта 2002 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2002 г.

С использованием методов гравиметрии, инфракрасной спектроскопии, многоугловой эллипсометрии и микроскопии атомных сил проведено исследование термостимулированной трансформации структуры кремний-кислородной фазы в слоях SiOx, приводящей к образованию нановключений кремния. Показано, что вакуумная термообработка приводит к увеличению концентрации кислородных мостиков в структурной сетке окисла, окисел уплотняется, сглаживается рельеф его поверхности. Выделение фаз кремния и диоксида кремния происходит в результате процесса перехода кислорода от слабо окисленных молекулярных кластеров (SiOSi3) к сильно окисленным (SiO3Si). Анализ эллипсометрических данных в рамках модели эффективной среды позволил оценить доли выделившихся фаз кремния и диоксида кремния.