Вышедшие номера
Напряженные многослойные структуры с псевдоморфными слоями GeSiSn
Тимофеев В.А.1, Никифоров А.И.1,2, Туктамышев А.Р.1, Есин М.Ю.1, Машанов В.И.1, Гутаковский А.К.1, Байдакова Н.А.3
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
2Национальный исследовательский Томский государственный университет, Томск, Россия
3Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
Email: Vyacheslav.t@isp.nsc.ru
Поступила в редакцию: 27 апреля 2016 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2016 г.

Изучены температурные и композиционные зависимости критической толщины 2D-3D перехода для пленки GeSiSn на поверхности Si(100). Впервые исследованы закономерности формирования многослойных структур, содержащих псевдоморфные слои GeSiSn непосредственно на Si без релаксированных буферных слоев. Методом просвечивающей электронной микроскопии показана возможность создания многослойных структур на основе псевдоморфных пленок GeSiSn и определены параметры кристаллической решетки. Выращенные структуры продемонстрировали фотолюминесценцию для содержания Sn в слоях GeSiSn от 3.5 до 5%.