Вышедшие номера
Атомные ступени на ультраплоской поверхности Si(111) при сублимации
Ситников С.В.1, Латышев А.В.1,2, Косолобов С.С.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
2Новосибирский государственный университет, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 10 ноября 2015 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2016 г.

Методом сверхвысоковакуумной отражательной электронной микроскопии in situ проведены исследования кинетики атомных ступеней на ультраплоской поверхности кремния (111) при температурах 1050-1350oC. Впервые экспериментально показано, что скорость смещения атомной ступени при сублимации нелинейным образом зависит от ширины прилегающей к ступени террасы. Установлено, что атомный механизм процессов массопереноса на поверхности кремния при температурах выше 1200oC определяется зарождением и диффузией поверхностных вакансий, а не адсорбированных атомов кремния. Проведенные исследования позволили оценить энергию активации процесса растворения вакансии с поверхности в объем кремния, которая составила (4.3±0.05) эВ.