Вышедшие номера
Электрофизические свойства слоев кремния, имплантированных ионами иттербия
Александров О.В.1, Захарьин А.О.1, Соболев Н.А.2
1Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 27 июня 2001 г.
Выставление онлайн: 20 января 2002 г.

Установлено, что имплантация ионов иттербия с энергией 1 МэВ и дозой 1013 см-2 в кремний и постимплантационный отжиг при температурах 600-1100oC приводят к образованию донорных центров. Концентрация донорных центров выше в образцах, дополнительно имплантированных ионами кислорода. Результаты указывают, что происходит образование по крайней мере двух типов донорных центров, обусловленных примесными атомами иттербия и кислорода. Определена зависимость подвижности электронов от концентрации электрически активных центров в слоях кремния, имплантированных ионами редкоземельной примеси иттербия, в диапазоне концентраций 7· 1015-1017 см-3.