"Физика и техника полупроводников"
Издателям
Вышедшие номера
Влияние внешних воздействий на фотоэлектрические параметры аморфного гидрированного кремния в зависимости от исходных характеристик пленок
Рахимов Н.1, Бабаходжаев У.1, Мавлянов Х.1, Икрамов Р.1
1Наманганский государственный университет, Наманган, Узбекистан
Поступила в редакцию: 6 декабря 2000 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2001 г.

Проведены исследования влияния вакуумных отжигов, имплантации ионов Si+ и облучения светом на фотоэлектрические параметры пленок a-Si : H. Показана решающая роль исходных характеристик пленок для эффекта кристаллизации, а также для проявления эффекта Стаблера--Вронского.
  • M. Sudhar, D.D. Cyung, W.A. Anderson, J. Coleman. MRS Symp. Proc., 356, 921 (1995)
  • K. Zellama, L. Chahed, P. Sladek, M.L. Th\`eye, J.H. von Bardeleben, P. Roca i Cabarrocas. Phys. Rev. B, 53 (7), 3804 (1996)
  • Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

    Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.