Вышедшие номера
Особенности поглощения в наноструктурах a-Si / ZrOx
Хохлов А.Ф.1, Чучмай И.А.1, Ершов А.В.1
1Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
Поступила в редакцию: 7 октября 1999 г.
Выставление онлайн: 18 февраля 2000 г.

Исследовано поведение спектров коэффициента поглощения alpha(homega) в области края фундаментального поглощения многослойных наноструктур a-Si / ZrOx, полученных испарением, при уменьшении толщины слоев аморфного кремния от 10 до 3 нм. Число периодов структур составляло от 7 до 14. Периодичность контролировалась методами малоугловой рентгеновской дифракции и сканирующей зондовой микроскопии. Обнаружены участки линейной зависимости alphahomega=f(homega) в спектрах коэффициента поглощения alpha(homega) и увеличение эффективной оптической щели при толщине слоев a-Si =<5 нм. Результат интерпретирован как проявление эффекта размерного квантования.