Образование омического контакта в процессе непрерывного нагревания диодов Шоттки на основе GaAs и GaP
Гольдберг Ю.А.1, Поссе Е.А.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 28 июля 1997 г.
Выставление онлайн: 20 января 1998 г.
Изучалось изменение характеристик ток-напряжение и емкость-напряжение контактов полупроводник-твердый металл (диодов Шоттки GaAs-Ni и GaP-Au) в процессе их непрерывного нагревания. Установлено, что при некоторой температуре вентильные контакты переходят в омические. Такой переход происходит еще до возможного образования рекристаллизованного слоя, характерного для традиционного омического контакта. Температура перехода Tohm была существенно ниже температуры плавления металла. Исследование вольт-амперных характеристик этих структур, отожженных при различных температурах Tann и охлажденных до комнатной температуры, показало, что при Tann, меньших некоторой критической температуры T0, cвойства структуры практически не изменяются, при Tohm>Tann>T0 структуры остаются вентильными, но в них появляются избыточные токи, а при Tann>Tohm структуры необратимо становятся омическими. Предполагается, что после химического взаимодействия металла и приповерхностного слоя полупроводника вновь образованная поверхность приобретает свойства, обеспечивающие омические характеристики контакта металл-полупроводник.
- E.H. Rhoderick. IEEE Proc., 129, pt. 1, 1 (1982)
- A.Y.C. Yu. Sol. St. Electron., 13, 239 (1970)
- Ю.А. Гольдберг, Е.А. Поссе, Б.В. Царенков. ФТП, 20, 1510 (1986)
- Ю.А. Гольдберг, М.В. Ильина, Е.А. Поссе, Б.В. Царенков. ФТП, 22, 555 (1988)
- Yu.A. Goldberg, E.A. Posse, B.V. Tsarenkov. Electron. Lett., 7, 601 (1971)
- Ю.А. Гольдберг, Е.А. Поссе, Б.В. Царенков, М.И. Шульга. ФТП, 25, 439 (1991)
- L. Bernstein. J. Electrochem. Soc., 109, 270 (1962)
- Ю.А. Гольдберг, О.В. Иванова, Т.В. Львова, Б.В. Царенков. ФТП, 17, 1068 (1983)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.