Вышедшие номера
К расчету высоты барьера Шоттки на начальной стадии формирования контакта <карбид кремния>--<субмонослойная пленка металла>
Давыдов С.Ю.1, Лебедев А.А.1, Тихонов С.К.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 5 июня 1997 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 1997 г.

В рамках обобщенной модели Андерсона-Халдейна для плотности состояний полупроводника рассчитано положение локальных и квазилокальных состояний металлических атомов (щелочные металлы, металлы III группы и группы меди), адсорбированный на поверхности 6H-SiC и их заполнение. Результаты расчетов сопоставляются с экспериментальными данными по барьерам Шоттки.