Вышедшие номера
Об идентификации точечных дефектов вблизи границы раздела полупроводников посредством возмущения акустической волной
Коротченков О.А.1
1Киевский национальный университет им. Тараса Шевченко, Киев, Украина
Поступила в редакцию: 4 октября 1995 г.
Выставление онлайн: 19 июня 1996 г.

Эпитаксиальные пленки SiGe, нанесенные на подложку Si с ориентацией (100), изучены методом нестационарной спектроскопии глубоких уровней с возмущающим воздействием акустической волны в мегагерцовом диапазоне частот. Зарегистрировано существенное различие во влиянии акустической волны на уровни дефектов с энергией активации ~0.2 и 0.4 эВ. Обнруженный эффект позволяет предположительно связать уровень с энергией 0.4 эВ с точечными дефектами, локализованными вблизи границы раздела.