Вышедшие номера
Перенос носителей заряда в поликристаллических кремниевых p- n-структурах
Саидов М.С.1, Абдурахманов Б.М.1, Алиев Р.1, Саидов А.С.1
1Институт электроники им.У.А.Арифова Академии наук Республики Узбекистан, Ташкент, Узбекистан
Поступила в редакцию: 28 июля 1994 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 1995 г.

Исследованы процессы переноса заряда в p-n-структурах на основе поликристаллического кремния. Образцы изготавливались тремя способами: осаждением из газовой фазы p+-слоя, термодиффузией бора и ионной имплантацией бора в тонкий n-слой на n+-подложке промышленного кремния. Установлено, что вольт-амперные характеристики структур имеют область отрицательного дифференциального сопротивления и это связано со свойствами границ зерен.