Вышедшие номера
Эпитаксиальный рост высокочистого GaAs методом МОС гидридного осаждения с использованием криофильтрационной очистки арсина
Валяев В.В.1, Гуртовой В.Л.1, Шаповал С.Ю.1, Киреев В.А.1, Смирнов Н.В.1
1Институт проблем технологии микроэлектроники и особочисных материалов Российской академии наук,, Черноголовка, Россия
Поступила в редакцию: 11 марта 1994 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 1994 г.

Выращены слои GaAs методом МОС гидридной эпитаксии при пониженном давлении с использованием криофильтрационной системы очистки арсина. Использование очистки арсина позволяет снизить на порядок концентрацию свободных носителей и глубоких центров в GaAs. Определена оптимальная рабочая температура очистки. При понижении температуры очистки до оптимальной наблюдается значительное улучшение спектров фотолюминесценции. Оптимизированы условия роста для улучшения качества слоев.