Исследована кинетика образования и эволюция микродефектов в поверхностном слое кремния на границе с окислом при его термическом окислении в зависимости от толщины окисла. Окислялись пластины n-Si<P> с концентрацией фосфора N_P=5·10¹⁶ см^-3 ориентации (111) в парах H₂O + 4 % HCl при температуре 1000^oC с вариацией времени окисления от 4 до 360 мин. Вид и плотность микродефектов на поверхности кремния под окислом исследовались визуально в металлографическом микроскопе при выявлении их путем травления в избирательном травителе Сиртла после стравливания слоя SiO₂.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.