"Физика и техника полупроводников"
Вышедшие номера
Морфология, плотность состояний и поляризация в неоднородных слоях alpha-Si:H
Сулеман X.1, Лигачев В.А.1, Филиков В.А.1
1Московский энергетический институт,, Москва, Россия
Выставление онлайн: 20 января 1993 г.

В рамках модели неоднородной (столбчатой) структуры анализируется взаимосвязь параметров морфологии, спектров плотности состояний и спектров времен релаксации пленок alpha-Si:H, полученных высокочастотным ионно-плазменным распылением при различных значениях мощности разряда в атмосфере аргон-водород. Показано, что "соединительная ткань" является энергетическим барьером, разделяющим "столбы", составляющие основу материала. Высота барьера определена из данных метода постоянного фототока, а среднее время надбарьерного перехода рассчитано с использованием модели релаксатора Фрелиха. Обнаружено согласие между расчетными и экспериментальными параметрами, характеризующими процессы поляризации соединительной ткани в исследованных пленках.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.