"Физика и техника полупроводников"
Издателям
Вышедшие номера
Влияние щелочных металлов на электронные свойства межзеренных границ на поверхности поликристаллического кремния
Олимов Л.О.1
1Андижанский государственный университет им. З.М. Бабура, Андижан, Узбекистан
Поступила в редакцию: 19 сентября 2011 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2012 г.

Экспериментально изучено влияние щелочных металлов на дрейф носителей заряда межзеренных границ на поверхности поликристаллического кремния. Полученные результаты показывают, что увеличение концентрации легирующих примесей в процессе диффузии, десорбции, а также адсорбции щелочных металлов вдоль межзеренных границ приводит к росту потенциального барьера.
  1. Л.О. Олимов. Автореф. канд. дис. (Андижан, Андижан гос. ун-т, 1999)
  2. А.В. Заставной, В.М. Король. ФТП, 23 (2), 369 (1989)
  3. С.Ю. Давыдов, А.В. Павлык. ФТП, 38 (8), 95 (2004)
  4. Л.О. Олимов. ФТП, 44 (5), 628 (2010)
  5. Поликристаллические полупроводники. Физические свойства и применения, пер. с англ. под ред. Г. Харбек (М., Мир, 1989)
  6. Б.М Абдурахманов, Т.Х. Ачилов, А.Л. Кадыров и др. Гелиотехника, N 4, 8 (1992)
  7. Тонкие поликристаллические и аморфные пленки. Физика и применения, пер. с англ. под ред. Л. Казмерски (М., Мир, 1983)
  8. В.П. Чирва, Ш.А. Абляев. Деп. в ВИНИТИ (Ташкент, 1968)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.