"Физика и техника полупроводников"
Вышедшие номера
Влияние кислородной плазмы на свойства пленок оксида тантала
Калыгина В.М.1, Зарубин А.Н.1, Новиков В.А.1, Петрова Ю.С.1, Скакунов М.С.1, Толбанов О.П.1, Тяжев А.В.1, Яскевич Т.М.1
1Сибирский физико-технический институт им. акад. В.Д. Кузнецова Томского государственного университета, Томск, Россия
Поступила в редакцию: 30 декабря 2009 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2010 г.

Исследовано влияние кислородной плазмы на токи утечки, величину диэлектрической проницаемости и тангенса угла диэлектрических потерь тонких слоев (300-400 нм) Ta2O5. Предложено использовать обработку пленок оксида тантала в кислородной плазме для управления их электрическими и диэлектрическими характеристиками.
  1. S. Oshio, M. Yamamoto, J. Kuwata, T. Matsuoka. J. Appl. Phys., 71, 3471 (1991)
  2. Т.В. Петлицкая. Докл. БГУИР, 1 (1), 70 (2003)
  3. C.-S. Chang, T.-P. Liu, T.-B. Wu. J. Appl. Phys., 88, 7242 (2000)
  4. H. Kozawaguchi, B. Tsujiyama, K. Murase. Jpn. J. Appl. Phys., 21, 1028 (1928)
  5. Tsai Kou-Chiang, Wu Wen-Fa, Chao Chuen-Guang, Wu Chi-Chang. J. Electrochem. Soc., 154, H512 (2007)
  6. S. Oshio, M. Yamamoto, J. Kuwata, T. Mastsuoka. J. Appl. Phys., 71, 3471 (1991)
  7. М.Д. Машкович. Электрические свойства неорганических диэлектриков в диапазоне СВЧ (М., Сов. радио, 1969)
  8. П.Т. Орешкин. Физика полупроводников и диэлектриков (М., Высш. шк., 1977)
  9. В.В. Пасынков, В.С. Сорокин. Материалы электронной техники (СПб., Лань, 2001)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.