Вышедшие номера
Технология получения одномерных фотонных кристаллов с помощью фотоэлектрохимического травления кремния
Жарова Ю.А.1, Федулова Г.В.1, Гущина Е.В.1, Анкудинов А.В.1, Астрова Е.В.1, Ермаков В.А.2,3, Перова Т.С.2
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Department of Electronic and Electrical Engineering, University of Dublin, Trinity College, Dublin 2, Ireland
3Университет ИТМО, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 14 декабря 2009 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2010 г.

Анализируются условия формирования глубоких периодических щелей в процессе фотоэлектрохимического травления n-Si ориентации (100) с линейными затравками на поверхности. Сформулированы критерии для выбора периода затравочных канавок и для плотности тока травления в зависимости от уровня легирования подложки. Характерной особенностью полученных структур является гофрировка их стенок, обусловленная следами слившихся макропор. С помощью атомно-силовой микроскопии исследована неровность стенок в зависимости от режима травления и найдена плотность тока, при которой можно получить наиболее гладкие стенки. Их шероховатость в структурах с периодом 7 и 9 мкм на Si с удельным сопротивлением 15 Ом·см составила ~40 нм. Показано, что дополнительная обработка структур в щелочных растворах может уменьшить шероховатость стенок примерно в 2 раза.