Вышедшие номера
Низкотемпературная перекристаллизация нанометровых слоев Ge на ZnSe
Супрун С.П.1, Федосенко Е.В.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 26 сентября 2006 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2007 г.

Приведены результаты наблюдения в динамике методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии процесса низкотемпературной перекристаллизации аморфного слоя Ge, осажденного при комнатной температуре на пленку ZnSe. Показано, что экспериментально измеренные сдвиги остовного уровня германия 3d согласуются с изменениями кристаллической структуры слоя, наблюдаемыми методом дифракции быстрых электронов на отражение, и могут быть объяснены последовательными изменениями Ge на наноуровне с ростом температуры. PACS: 64.70.Nd, 68.35.-p, 68.37.Xy, 79.60.Bm, 81.07.Ta, 81.40.Ef, 81.65.-b