В сверхвысоковакуумных условиях изучена термическая стабильность и трансформация молекул C₆₀, нанесенных поверх пленки кремния на поверхность (111) иридия в интервале температур 300-1900 K. Показано, что весь температурный интервал распадается на четыре последовательных подинтервала, для каждого из которых характерен свой доминирующий процесс: термостабильность пленок C₆₀ (T<600 K); десорбция молекул фуллеренов из второго и последующих молекулярных слоев (800-900 K); распад этих молекул в первом, контактирующем с подложкой слое (650-850 K); графитизация углеродного слоя и область термостабильности двумерной графитовой пленки (900-1700 K); термодесорбция углерода с поверхности (T>1900 K). Характер протекающих процессов остается качественно неизменным при переходе от субмонослойных пленок Si к пленкам толщиной в 4-5 монослоев.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.