Анизотропные напряжения в слоях GaN(1120) на подложке r-Al2O3 при хлорид-гидридной газофазной эпитаксии
Бессолов В.Н.1, Коненкова Е.В.1, Середова Н.В.1, Пантелеев В.Н.1, Щеглов М.П.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: lena@triat.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 18 октября 2021 г.
В окончательной редакции: 10 ноября 2021 г.
Принята к печати: 10 ноября 2021 г.
Выставление онлайн: 26 декабря 2021 г.
Сообщается о росте неполярных GaN(1120) структур методом хлорид-гидридной газофазной эпитаксии с использованием буферного слоя AlN, синтезированного методом эпитаксии из металлоорганических соединений на подложке r-Al2O3. Показано, что упругие напряжения в структуре GaN(1120)/r-Al2O3 в направлении осей "c" и "a" слоя различаются, коррелируют с величинами полуширин кривых качания спектров рентгеновской дифракции в этих направлениях и обусловлены анизотропией коэффициентов термического расширения решеток как слоя, так и подложки. Ключевые слова: неполярный нитрид алюминия, анизотропия напряжений в слое.
- M. Khan, J.N. Kuznia, A.R. Bhattarai, D.T. Olson. Appl. Phys. Lett., 62, 1786 (1993)
- M.A. Alim, A.Z. Chowdhury, Sh. Islam, Ch. Gaquiere, G. Crupi. Electronics, 10, 1115 (2021)
- K.J. Singh, Y.-M. Huang, T. Ahmed, A.-Ch. Liu, S.-W. Huang Chen, F.-J. Liou, T. Wu, Ch.-Ch. Lin, Ch.-W. Chow, G.-R. Lin, H.-Ch. Kuo. Appl. Sci., 10, 7384 (2020)
- T. Paskova, R. Kroeger, D. Hommel, P.P. Paskov, B. Monemar, E. Preble, A. Hanser, N.M. Williams, M. Tutor. Phys. Status Solidi C, 4, 25369 (2007)
- X. Ni, Y.Fu, Y.T. Moon, N. Biyikli, H. Morkoc. J. Cryst. Growth, 290, 166 (2006)
- R.K. Pant, D.K. Singh, B. Roul, A.M. Chowdhury, G. Chandan, K.K. Nanda, S.B. Krupanidhi. Phys. Status Solidi A, 216, 1900171 (2019)
- A.A. Donskov, L.I. D'yakonov, A.V. Govorkov, Y.P. Kozlova, S.S. Malakhov, A.V. Markov, M.V. Mezhennyi, V.F. Pavlov, A.Y. Polyakov, N.B. Smirnov, T.G. Yugova, S.J. Pearton. J. Vac. Sci. Technol. B, 26 (6), 1937 (2008)
- M. Lee, M. Yang, S. Park. Cryst. Eng. Commun., 20, 1 (2018)
- J. Yang, T. Wei, Q. Hu, Z. Huo, B. Sun, R. Duan, J. Wang. Mater. Sci. Semicond. Process., 29, 357 (2015)
- V. Bessolov, A. Kalmykov, E. Konenkova, S. Kukushkin, A. Myasoedov, N. Poletaev, S. Rodin. J. Cryst. Growth, 457, 202 (2017)
- С.А. Смирнов, В.Н. Пантелеев, Ю.В. Жиляев, С.Н. Родин, А.С. Сегаль, Ю.Н. Макаров, А.В. Буташин. ЖТФ, 78 (12), 70 (2008)
- V. Aggarwal, C. Ramesh, P. Tyagi, S. Gautam, A. Sharma, S. Husale, M.S. Kumar, S.S. Kushvaha. Mater. Sci. Semicond. Proc., 125, 105631 (2021)
- T. Paskova, V. Darakchieva, P.P. Paskov, J. Birch, E. Valcheva, P.O.A. Persson, B. Arnaudov, S. Tungasmitt, B. Monemar. J. Cryst. Growth, 281, 55 (2005)
- H. Shin, K. Jeon, Y. Jang, M. Gang, M. Choi, W. Park, K. Park. J. Korean Phys. Soc., 63 (8), 1621 (2013)
- T. Narita, T. Hikosaka, Y. Honda, M. Yamaguchi, N. Sawaki. Phys. Status Solidi C, 0 (7), 2154 (2003)
- В.Н. Бессолов, Е.В. Коненкова, В.Н. Пантелеев. ЖТФ, 90 (12), 123 (2020)
- G. Grabowski, R. Lach, Z. Pedzich, K. Swierczek, A Wojteczko. Arch. Civil Mechan. Engin., 18, 188 (2018)
- W. Qian, M. Skowronski, G.R. Rohrer. Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 423, 475 (1996)
- K. Wang, R.R. Reeber. Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 482, 863 (1998)
- H.P. Maruska, J.J. Tietjen. Appl. Phys. Lett., 15, 327 (1969)
- J. Lahnemann, U. Jahn, O. Brandt, T. Flissikowski, P. Dogan, H.T. Grahn. J. Phys. D: Appl. Phys., 47, 423001 (2014)
- C.M. Drum. Phil. Mag., 11 (110), 313 (1965)
- P. Vennegues, J.M. Chauveau, Z. Bougrioua, T. Zhu, D. Martin, N. Grandjean. J. Appl. Phys., 112, 113518 (2012)
- M. Albrecht, S. Christiansen, G. Salviati, C. Zanotti-Fregonara, Y.T. Rebane, Y.G. Shreter, M. Mayer, A. Pelzmann, M. Kamp, K.J. Ebeling, M.D. Bremser, R.F. Davis, H.P. Strunk. Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 468, 293 (1997)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.