Вышедшие номера
Легирование углеродных нанослоев, выращенных импульсным лазерным методом
Данилов Ю.А.1, Алафердов А.В.1,2, Вихрова О.В.1, Здоровейщев Д.А.1, Ковальский В.А.3, Крюков Р.Н.1, Кузнецов Ю.М.1, Лесников В.П.1, Нежданов А.В.1, Дроздов М.Н.4
1Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
2Center for Semiconductor Components and Nanotechnologies, University of Campinas,-870 Campinas, SP, Brazil
3Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН, Черноголовка, Московская обл., Россия
4Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
Email: danilov@nifti.unn.ru
Поступила в редакцию: 9 апреля 2021 г.
В окончательной редакции: 19 апреля 2021 г.
Принята к печати: 19 апреля 2021 г.
Выставление онлайн: 11 мая 2021 г.

Исследованы возможности легирования углеродных слоев, выращиваемых методом импульсного лазерного нанесения, примесями переходных металлов. Изучены состав, оптические и электрические параметры структур на подложках GaAs и Si/SiO2. Показано, что введение таких атомов, как Fe, модифицирует магнитные свойства слоев, вызывая нелинейные магнитополевые зависимости эффекта Холла при температурах вплоть до 300 K. Ключевые слова: импульсное лазерное нанесение, углеродные слои, легирование, примеси переходных металлов.