Вышедшие номера
Пленки оксида галлия, полученные методом термического напыления
Калыгина В.М.1, Зарубин А.Н.1, Новиков В.А.1, Петрова Ю.С.1, Толбанов О.П.1, Тяжев А.В.1, Цупий С.Ю.1, Яскевич Т.М.1
1Сибирский физико-технический институт им. акад. В.Д. Кузнецова Томского государственного университета, Томск, Россия
Поступила в редакцию: 23 июля 2012 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2013 г.

Изучены вольт-амперные, вольт-фарадные и вольт-сименсные характеристики структур металл- GaxOy-GaAs-металл. Пленки оксида галлия толщиной 150-170 нм получали термическим напылением порошка Ga2O3 на подложки электронного GaAs с концентрацией доноров Nd=2·1016 см-3. После обработки пленок GaxOy в кислородной плазме снижаются прямые и обратные токи; C-U и G-U зависимости сдвигаются в область более высоких положительных напряжений. Уровень Ферми на границе раздела диэлектрик-полупроводник исследованных структур откреплен. Показано, что на границе GaxOy-GaAs плотность состояний Nt=(2-6)·1012 эВ-1см-2.