Вышедшие номера
Низкотемпературное выращивание эпитаксиальных слоев кремния, солегированных атомами эрбия и кислорода
Шенгуров Д.В.1, Чалков В.Ю.2, Денисов С.А.2, Шенгуров В.Г.2, Степихова М.В.1, Дроздов М.Н.1, Красильник З.Ф.1
1Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
2Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
Поступила в редакцию: 10 мая 2012 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 2013 г.

Продемонстрированы технология и свойства светоизлучающих легированных эрбием и кислородом Si-структур. Слои были осаждены методом молекулярно-лучевой эпитаксии на (100)Si, используя кремниевый сублимационный источник, легированный Er. Перед ростом слоев парциальное давление кислородсодержащих газов в камере роста установки молекулярно-лучевой эпитаксии было меньше 5·10-10 Торр. Концентрация кислорода в слоях Si, выращенных при 450oC, была ~ 1·1019 см-3, а эрбия - 1018 см-3. Эпитаксиальные слои кремния, солегированные эрбием и кислородом, имели хорошее кристаллическое качество, демонстрируя эффективный сигнал фото- и электролюминесценции с преобладанием в спектрах оптически активного центра Er-1, формируемого в процессе послеростового отжига при температуре 800oC.