Вышедшие номера
Очистка от оксидов поверхности пластин полупроводника InSb для создания латеральных спиновых клапанов
Переводная версия: 10.1134/S1063782619020258
Виглин Н.А. 1, Грибов И.В.1, Цвелиховская В.М.1, Патраков Е.И.1
1Институт физики металлов им. М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук, Екатеринбург, Россия
Email: viglin@imp.uran.ru
Поступила в редакцию: 14 мая 2018 г.
Выставление онлайн: 20 января 2019 г.

Изучались условия создания гладкой и освобожденной от оксидов поверхности полупроводника InSb с целью создания на его основе латеральных спиновых устройств. Исследовалась скорость сухого травления ионами Ar поверхности слоев кристаллических граней (100) пластин полупроводника InSb, а также изменение их шероховатости в зависимости от мощности подводимой к усройствам ионного травления. Оценивалась степень окисления поверхности полупроводника, экспонированного на воздухе после ионной чистки и отжига в молекулярном водороде. На основе сравнения эффективности спиновой инжекции в устройствах, созданных с полупроводниками, подвергшимися различной обработке, сделан вывод о параметрах оптимальной подготовки поверхности пластин InSb для изготовления латеральных спиновых устройств.