Вышедшие номера
Электронный транспорт в квантовых ямах AlGaAs/InGaAs/ GaAs РНЕМТ при различных температурах: влияние одностороннего дельта-легирования Si
Переводная версия: 10.1134/S106378261802015X
Сафонов Д.А.1, Виниченко А.Н.1,2, Каргин Н.И.1, Васильевский И.С.1
1Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", Москва, Россия
2Балтийский федеральный университет им. Иммануила Канта, Калининград, Россия
Email: safonov.dan@mail.ru
Поступила в редакцию: 20 апреля 2017 г.
Выставление онлайн: 20 января 2018 г.

Исследовано влияние концентрации delta-легирования кремнием на электронные транспортные свойства псевдоморфных квантовых ям Al0.25Ga0.75As/In0.2Ga0.8As/GaAs в широком интервале температур 4.2-300 K. Обнаружено снижение эффективности легирования при концентрации электронов >1.8·1012 см-2, обусловленное эффектами неполной ионизации примеси, что отражается также на температурной зависимости концентрации электронов. Наблюдается немонотонное изменение подвижности электронов с ростом концентрации доноров, не связанное с заполнением верхней подзоны размерного квантования. Возрастание подвижности связано с ростом импульса Ферми и экранированием, а последующий еe спад при увеличении концентрации кремния обусловлен туннельной деградацией спейсерного слоя при понижении потенциала зоны проводимости в области delta-слоя Si. DOI: 10.21883/FTP.2018.02.45444.8621