Вышедшие номера
Поверхностное наноструктурирование в системе углерод--кремний (100) при микроволновой плазменной обработке
Российский научный фонд, 16-19-10033
Яфаров Р.К. 1, Шаныгин В.Я. 1
1Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН, Саратов, Россия
Email: pirpc@yandex.ru, vitairerun@mail.ru
Поступила в редакцию: 14 февраля 2016 г.
Выставление онлайн: 20 марта 2017 г.

Рассмотрены физико-химические процессы и механизмы влияния плазменной подготовки поверхности на закономерности конденсации и поверхностные фазовые превращения при формировании масковых кремний-углеродных доменов на кристаллах кремния (100) p-типа при осаждении субмонослойных углеродных покрытий в СВЧ-плазме паров этанола низкого давления. Показано, что при кратковременных длительностях осаждения углерода на кремниевые пластины с естественным оксидным покрытием при температуре 100oC наблюдается формирование доменов с латеральными размерами от 10-15 до 200 нм, а высоты выступов, полученных плазмохимическим травлением кремния через доменные масковые покрытия, изменяются в интервале от 40 до 80 нм. DOI: 10.21883/FTP.2017.04.44352.8207