Особенности вольт-фарадных характеристик МДП-структуры Cu-SiO2-p-InSb
Алиев Р.А.1, Гаджиев Г.М.1, Гаджиалиев М.М.1, Исмаилов А.М.1, Пирмагомедов З.Ш.1
1Институт физики им. Х.И. Амирханова Дагестанского научного центра РАН, Махачкала, Россия
Email: hadzhyGM@mail.ru
Поступила в редакцию: 25 февраля 2016 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 2017 г.
Измерены вольт-фарадные характеристики и проводимость МДП-структур на основе InSb при разных частотах измерительного сигнала с целью изучения влияния условий технологического синтеза на емкостные свойства данных структур. Обсуждается влияние положительного, встроенного в диэлектрик, заряда на измеренные характеристики образца, которое проявляется в виде резкого "переключения" емкости при смене полярности слабополевого внешнего воздействия (E<106 В/см). DOI: 10.21883/FTP.2017.03.44212.8220
- А.М. Филачев, И.И. Таубкин, М.А. Тришенков. Современное состояние и магистральные направления развития современной фотоэлектроники (М., Физматкнига, 2010) с. 128
- В.С. Вавилов, А.Ф. Плотников, В.Э. Шубин. ФТП, 4, 598 (1970)
- E.C. Ross, I.T. Wallmark. RCH Rev., 30, 366 (1969)
- D.F. Barbe. Proc IEEE, 63, 38 (1975)
- F. Schwierz, J. Pezoldt, R. Granzner. Nanoscale, 7, 8261 (2015)
- T.D. Subash, T. Gnanasekaran, C. Divya. J. Semicond., 36, 014003 (2015)
- M.M. Uddin, H.W. Liu, K.F. Yang, K. Nagase, K. Sekine, C.K. Gaspe, T.D. Mishima, M.B. Santos, Y. Hirauama. Appl. Phys. Lett., 103, 123502 (2013)
- В.Г. Вайнер. Канд. дис. (Новосибирск, Ин-т физики полупроводников, 1984)
- T. Nakagava, H. Fujisada. Appl. Phys. Lett., 31, 348 (1977)
- S.R. Hofstein, K.H. Zaininger, G. Warfield. Proc. IEEE, 52, 971 (1964)
- R.H. Fowler, L. Nordheim. Proc. Royal. Soc., 119, 173 (1928)
- В.С. Вавилов, А.Ф. Плотников, В.Э. Шубин. ФТП, 5, 2064 (1971)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.