Вышедшие номера
Зарождение двумерных островков на Si(111) при высокотемпературном эпитаксиальном росте
Российский научный фонд, Проведение фундаментальных научных исследований и поисковых научных исследований коллективами существующих научных лабораторий (кафедр), 14-22-00143
Ситников С.В. 1, Косолобов С.С. 1,2, Латышев А.В. 1,3
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
2Сколковский институт науки и технологий, Москва, Россия
3Новосибирский государственный университет, Новосибирск, Россия
Email: sitnikov@isp.nsc.ru, latyshev@isp.nsc.ru
Поступила в редакцию: 19 мая 2016 г.
Выставление онлайн: 20 января 2017 г.

Методом in situ сверхвысоковакуумной отражательной электронной микроскопии при высокотемпературном эпитаксиальном росте проведены исследования процесса зарождения двумерных островоков на ультраплоской поверхности Si(111). В интервале температур 900-1180oC экспериментально измерен критический размер (Dcrit) террасы, при достижении которого в центре зарождается двумерный островок, при различных потоках кремния на поверхность. Обнаружено, что Dcrit2 степенным образом зависит от частоты зарождения островков с показателем степени chi=(0.9±0.05) во всем измеренном температурном интервале. Установлено, что кинетика зародышеобразования определяется диффузией адсорбированных атомов кремния вплоть до температуры 1180oC, а минимальный критический размер зародыша соответствует 12 атомам кремния. DOI: 10.21883/FTP.2017.02.44107.8332