Исследовано влияние термического отжига в аргоне и воздействие кислородной плазмы на вольт-амперные характеристики и фотоотклик структур TiO₂-Si. Пленки оксида титана получали ВЧ магнетронным напылением на подложках n-Si. Наблюдаемые особенности поведения электрических и фотоэлектрических характеристик образцов после отжига и обработки в кислородной плазме связаны с изменением фазового состава оксидной пленки за счет появления кристаллитов анатаза или рутила в зависимости от условий обработки.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.