"Физика и техника полупроводников"
Вышедшие номера
Нанокластеры кремния, ncl-Si, в матрице гидрированного аморфного субокисла кремния, a-SiOx : H (0<x<2) О б з о р
Ундалов Ю.К.1, Теруков Е.И.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 13 октября 2014 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2015 г.

В работе проведен обзор литературы, касающейся плазменных способов получения и исследований нанокластеров кремния (ncl-Si) в кристаллической (c-SiO2) и в аморфной (a-SiOx : H) матрицах. Рассмотрено влияние модуляции разрядов, высокочастотного (RF) или на постоянном токе (DC), на кинетику роста ncl-Si. Анализ результатов изучения состава плазмы проведен на основе исследований методами инфракрасной спектроскопии, масс-спектрометрии и сканирования лазерным лучом. Описано поведение наночастиц в зависимости от их заряда и размеров в плазме под действием электрических, магнитных, гравитационных сил, а также под влиянием газодинамики входящих в плазму газов. Проанализированы данные изучения матрицы (пленок a-SiOx : H) с помощью инфракрасной спектроскопии. Также описаны фотолюминесцентные свойства ncl-Si, получаемых различными способами.
  1. И.П. Суздалев. Нанотехнология: Физико-химия нанокластеров, наноструктур и наноматериалов (М., Книжный дом "ЛИБРОКОМ", 2009)
  2. А.И. Гусев. Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии (М., Физматгиз, 2007)
  3. И.П. Суздалев. Химическая физика, 22, 69 (2003)
  4. M. Hamasaki, T. Adachi, S. Wakayama, M. Kikuchi. J. Appl. Phys., 49, 3987 (1978)
  5. К.Л. Чопра. Электрические явления в тонких пленках (М., Мир, 1972)
  6. L. Patrone, D. Nelson, V.I. Safarov, M. Sentis, W. Marine, S. Giorgio. J. Appl. Phys., 87 (8), 3829 (2000)
  7. A. Puzder, A.J. Williamson, J.C. Grossman, G. Galli. Phys. Rev. Lett., 88 (9), 09 740 (2002)
  8. О.Б. Гусев, А.Н. Поддубный, А.А. Прокофьев, И.Н. Яссиевич. ФТП, 47 (2), 147 (2013)
  9. D. Guzman, U. Corona, M. Cruz. J. Luminescence, 102 - 103, 487 (2003)
  10. F. Fogarassy, A. Slaoui, M. Froment. Phys. Rev. B, 37, 6468 (1988)
  11. В.Я. Братусь, В.А. Юхимчук, Л.И. Бережинский, М.Я. Валах. И.П. Ворона, И.З. Индутный, Т.Т. Петренко, П.Е. Шепелявый, И.Б. Ямчук. ФТП, 35, 854 (2001)
  12. A.A. Seraphin, S.-T. Ngiam, K.D. Kolendrander. J. Appl. Phys., 80, 6429 (1996)
  13. H. Takagi, H. Ogawa, Y. Yamazaki, A. Ishizaki, T. Nakagiri. Appl. Phys. Lett., 56 (24), 2379 (1990)
  14. S. Takeoka, M. Fujii, S. Hoyashi. Phys. Rev. B, 62 (24), 16820 (2000)
  15. B. Drevillon, J. Perrin, J.M. Siefert, J. Huc, A. Lioret, G. de Rosny, P.M. Schmitt. Appl. Phys. Lett., 42 (9), 801 (1983)
  16. R. Krishnan, Q. Xie, J. Kulik, X.D. Wang, S. Lu, M. Molinari, Y. Gao, T.D. Krauss, P.M. Fauchet. J. Appl. Phys., 96, 654 (2004)
  17. Y. Kanzawa, S. Hayashi, K. Yamamoto. J. Phys.: Condens. Matter, 8, 4823 (1996)
  18. Ch. Hollenstein, A.A. Howling, C. Courteille, D. Magni, S.M. Scholz, G.M.W. Kroesen, N. Simons, W. de Zeeuw, W. Schwarzenbach. J. Phys. D: Appl. Phys., 31, 74 (1998)
  19. Y. Rui, D. Chen, J. Xu, Y. Zhang, L. Yang, J. Mei, Z. Ma, Z. Cen, W. Li, L. Xu, X. Huang, K. Chen. J. Appl. Phys., 98, 033 532 (2005)
  20. C. Biasotto, A.M. Dalrini, R.C. Teixeira, F.A. Bascoli, J.A. Diniz, S.A. Moshkalev, I. Doi. J. Vac. Sci. Technol. B, 25, 1166 (2007)
  21. G. Lucovsky, J. Yang, S.S. Chao, J.E. Tyler, W. Czubatyi. Phys. Rev. B, 28 (6), 3225 (1983)
  22. M.H. Brodsky, M. Cardona, J.J. Guomo. Phys. Rev. B, 16 (8), 3556 (1977)
  23. J.C. Knights, R.A. Street, G. Lucovsky. J. Non-Cryst. Solids, 35-36, 279 (1980)
  24. R.N. Carlile, S. Geha, J.F. O'Hanlon, J.C. Stewart. Appl. Phys. Lett., 59 (19), 1167 (1991)
  25. Т.Т. Корчагина, Д.В. Марин, В.А. Володин, А.А. Попов, M. Vergnat. ФТП, 43 (11), 1557 (2009)
  26. L. Boufendi, J. Hermann, A. Bouchoule, B. Dubreuli, S. Stoffele, W.W. Stoffels, M.L. de Giorgi. J. Appl. Phys., 76 (1), 148 (1994)
  27. D.M. Tanenbaum, A.L. Laracuente, Alan Gallagher. Appl. Phys. Lett., 68 (12), 1705 (1996)
  28. Y. Watanabe, M. Shiratani. Jpn. J. Appl. Phys., 32 (6B), pt. 1, 3074 (1993)
  29. L. Boufendi, M.Ch. Jouanny, E. Kovacevic, J. Berndt, M.M. Kikian. J. Phys. D.: Appl. Phys., 44 (17), 174 035 (2011)
  30. S.J. Choi, M.J. Kushner. J. Appl. Phys., 74 (2), 853 (1993)
  31. М.А. Олеванов, Ю.А. Манкелевич, Т.В. Рахимова. ЖЭТФ, 125 (2), 324 (2004)
  32. L. Boufendi, A. Plain, J.Ph. Blondean, A. Bouchoule, C. Laure, M. Toogood. Appl. Phys. Lett., 60 (2), 169 (1992)
  33. M.T. Swihart, S.L. Girshick. J. Phys. Chem. B, 103, 64 (1999)
  34. K. Koga, Y. Matsuoka, K. Tanaka, M. Shiratani, Y. Watanabe. Appl. Phys. Lett., 77, 196 (2000)
  35. Ch. Hollenstein, J.L. Dorier, J. Dutta, L. Sansonnens, A.A. Howling. Plasma Sources Sci. Technol., 3, 278 (1994)
  36. Y. Watanabe, M, Shiratani, Y. Kubo, I. Ogana, S. Ogi. Appl. Phys. Lett., 53 (14), 1263 (1988)
  37. L. Boufendi, A. Bouchoule. Plasma Sources Sci. Technol., 3, 262 (1994)
  38. М.А. Олеванов, Ю.А. Манкелевич, Т.В. Рахимова. ЖЭТФ, 123, 503 (2003)
  39. M.P. Garrity, T.W. Peterson, J.F. O'Hanlon. J. Vac. Sci. Technol. A, 14, 550 (1996)
  40. Y. Watanabe, M. Shiratani. Plasma Sources Sci. Technol., 3, 286 (1994)
  41. Б.С. Данилин, В.К. Сырчин. Магнетронные распылительные системы (М., Радио и связь, 1982)
  42. L. Couedel, M.M. Mikikian, L. Boufendi, A.A. Samarian. Phys. Rev. E, 74, 026 403 (2006)
  43. L. Couedel, A.A. Samarian, M. Mikikian, L. Boufendi. Phys. of Plasmas, 15, 063 705 (2008)
  44. A. Bouchoule, A. Plain, L. Boufendi, J.Ph. Blondeau, C. Laure. J. Appl. Phys., 70, 1991 (1991)
  45. L. Boufendi, J. Gaudin, S. Huet, G. Viera, M. Dudemaine. Appl. Phys. Lett., 79, 4301 (2001)
  46. A.A. Foudman, L. Boufendi, T. Heid, B.V. Potapkin, A. Bouchoule. J. Appl. Phys., 79, 1303 (1996)
  47. D.A. Doughty, A. Gallagher. Phys. Rev. A, 42, 6166 (1990)
  48. Л. Лёб. Основные процессы электрических разрядов в газах (М.-Л., Гос. изд-во техн.-теорет. лит-ры, 1950)
  49. T. Fukuzawa, S. Kushima, Y. Matsuoka, M. Shiratani, Y. Watanabe. J. Appl. Phys., 86, 3543 (1999)
  50. P.G. Pai, S.S. Chao, Y. Takagi, G. Lucovsky. J. Vac. Sci. Technol. A, 4, 689 (1986)
  51. G. Lucovsky. Sol. St. Commun., 29, 571 (1979)
  52. M.A. Paesler, D.A. Anderson, E.C. Freeman, G. Moddel, W. Paul. Phys. Rev. Lett., 41, 1492 (1978)
  53. G. Lucovsky, W.B. Pollard. J. Vac. Sci. Technol. A, 1 (2), 313 (1983)
  54. D.V. Tsu, G. Lucovsky, B.N. Davidson. Phys. Rev. B, 40, 1795 (1989)
  55. F.L. Galeener, G. Lucovsky. Phys. Rev. Lett., 37, 55 (1970)
  56. G. Lucovsky, J.E. Tyler. J. Non-Cryst. Sol., 75, 429 (1985)
  57. H.Z. Song, X.M. Bao, N.S. Li, X.L. Wu. Appl. Phys. Lett., 72, 356 (1998)
  58. R. Carius, R. Fischer, E. Holzenkampfer, J. Stuke. J. Appl. Phys., 52, 4241 (1981)
  59. W.D.A.M. de Boer, D. Timmerman, K. Dohnalova, I.N. Yassievich, H. Zhang, W.J. Buma, T. Gregorkiewiecz. Nature Nanotechnology, 5, 878 (2010)
  60. D.J. Lockwood, A.G. Wang. Sol. St. Commun., 94, 905 (1995)
  61. D. Kovalev, H. Heckler, G. Polisski, F. Koch. Phys. Status Solidi B, 215 (2), 871 (1999)
  62. G. Allan, C. Delerue, M. Lannoo. Phys. Rev. Lett., 78, 3161 (1997)
  63. О.Б. Гусев, Ю.С. Вайнштейн, Ю.К. Ундалов, О.С. Ельцина, И.Н. Трапезникова, Е.И. Теруков, О.М. Сресели. Письма ЖЭТФ, 94 (5), 402 (2011)
  64. O.M. Sreselli, O.B. Gusev, J.S. Vainshtein, Yu.K. Undalov, O.S. Yeltsina, A.A. Sitnikova, E.I. Terukov. Sol. St. Phenomena, 178-179, 465 (2011)
  65. S. Schuppler, S.L. Friedman, M.A. Marcus, D.L. Adler, Y.-H. Xie, F.M. Ross, T.D. Harris, W.L. Brown, Y.J. Chabal, L.E. Brus, P.H. Citrin. Phys. Rev. Lett., 72 (16), 2648 (1994)
  66. S. Schuppler, S.L. Friedman, M.A. Marcus, D.L. Adler, Y.-H. Xie, F.M. Ross, Y.J. Chabal, T.D. Harris, L.E. Brus, W.L. Brown, E.E. Chaban, P.F. Szajowski, S.B. Christman, P.H. Citrin. Phys. Rev. B, 52 (7), 4910 (1995).

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.