Наблюдение динамики примесной фотопроводимости в n-GaAs, обусловленной остыванием электронов
Алешкин В.Я.1,2, Морозов С.В.1,2, Румянцев В.В.1,2, Тузов И.В.1,2
1Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
2Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
Поступила в редакцию: 23 мая 2014 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2014 г.
Проведено экспериментальное исследование временной зависимости примесной фотопроводимости в n-GaAs при импульсном оптическом возбуждении. Показано, что в первые 20 нс после фотовозбуждения изменение фотопроводимости определяется в основном процессами остывания электронов. Предложена теоретическая модель для описания наблюдаемых зависимостей.
- В.Ф. Гантмахер, И.Б. Левинсон. Рассеяние носителей тока в металлах и полупроводниках (М., Наука, 1984)
- В.Н. Абакумов, В.И. Перель, И.Н. Яссиевич. Безызлучательная рекомбинация в полупроводниках (СПб., 1997)
- А.Ф. Полупанов. ФТП, 11, 2044 (1977)
- В.Н. Абакумов, В.И. Перель, И.Н. Яссиевич. ЖЭТФ, 72, 674 (1977)
- Б.И. Шкловский, И.Я. Панчев. ФТП, 6, 1616 (1972)
- В.Я. Алешкин, Д.И. Бурдейный. ФТТ, 56, 883 (2014)
- A. Dargys, J. Kundrotas. Handbok on physical properties of Ge, Si, GaAs and InP (Science and Encyclopedia Publ., Vilnius, 1994)
- Б. Ридли. Квантовые процессы в полупроводниках (М., Мир, 1986)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.