Вышедшие номера
Долговременные изменения электрических и фотоэлектрических характеристик диодных структур Pd--p-InP
Слободчиков С.В.1, Салихов Х.М.1, Руссу Е.В.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 2 августа 2001 г.
Выставление онлайн: 19 марта 2002 г.

Исследованы электрические и фотоэлектрические характеристики диодных структур Pd-p-InP после многолетней выдержки на воздухе. Выявлено увеличение высоты барьера Шоттки на 0.2-0.3 эВ и рост фоточувствительности. Механизм токопереноса определяется генерационно-рекомбинационным током и туннелированием через уровни 0.28 и 0.40 эВ. Предполагается, что эти примесные центры находятся в приповерхностном слое p-InP у гетерограницы с Pd.