Импульсный синтез слоев beta-FeSi2 на кремнии, имплантированном ионами Fe+
Баталов Р.И.1, Баязитов Р.М.1, Теруков Е.И.2, Кудоярова В.Х.2, Weiser G.3, Kuehne H.3
1Казанский физико-технический институт Российской академии наук, Казань, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
3Philipps-Universitat Marburg, Marburg, Germany
Поступила в редакцию: 4 апреля 2001 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2001 г.
Синтез сплошных слоев и мелкодисперсных пленок beta-FeSi2 проводился с использованием имплантации ионов Fe+ в Si (100) с последующей наносекундной импульсной ионной обработкой имплантированных слоев. С использованием рентгеновской дифракции показано, что импульсная ионная обработка приводит к образованию смеси двух фаз: FeSi и beta-FeSi2 с напряженными кристаллическими решетками. Последующий кратковременный термический отжиг приводит к полной трансформации фазы FeSi в фазу beta-FeSi2 с образованием текстурированного слоя. Данные рамановского рассеяния подтверждают образование фазы beta-FeSi2 при высокой степени кристалличности кремния. Результаты измерений оптического поглощения свидетельствуют о формировании слоев и преципитатов beta-FeSi2 с прямозонной структурой с величиной оптической щели Eg~ 0.83 эВ и шириной хвоста Урбаха E0~ 220 мэВ. Сигнал фотолюминесценции при lambda~ 1.56 мкм, обусловленный прямыми межзонными переходами в beta-FeSi2, наблюдался вплоть до температуры 210 K.
- H. Ennen, J. Schneider, G. Pomrenke, A. Axmann. Appl. Phys. Lett., 43, 943 (1983)
- H. Ennen, G. Pomrenke, A. Axmann, K. Eisele, W. Haydl, J. Schneider. Appl. Phys. Lett., 46, 381 (1985)
- S. Coffa, C. Franzo, F. Priolo, A. Polman, R. Serna. Phys. Rev. B, 49, 16 313 (1994)
- M.C. Bost, J.E. Mahan. J. Appl. Phys., 58, 2696 (1985); J. Appl. Phys., 64, 2034 (1988)
- H. Katsumata, Y. Makita, N. Kobayashi, H. Shibata, M. Hasegawa, I. Aksenov, S. Kimura, A. Obara, S. Uekusa. J. Appl. Phys., 80, 5955 (1996)
- M.G. Grimaldi, S. Coffa, C. Spinella, F. Marabelli, M. Galli, L. Miglio, V. Meregalli. J. Luminesc., 80, 467 (1999)
- T. Suemasu, Y. Iikura, K. Takakura, F. Hasegawa. J. Luminesc., 87-89, 528 (2000)
- K.P. Homewood, K.J. Reeson, R.M. Gwilliam, A.K. Kewell, M.A. Lourenco, G. Shao, Y.L. Chen, J.S. Sharpe, C.N. McKinty, T. Butler. Thin Sol. Films, 381, 188 (2001)
- T. Suemasu, Y. Negishi, K. Takakura, F. Hasegawa. Jpn. J. Appl. Phys., 39, L1013 (2000)
- B.O. Kolbesen, H. Cerva. Phys. St. Sol. (b), 222, 303 (2000)
- R. Hodgson, J.E.E. Baglin, R. Pal, J.M. Neri, D.A. Hammer. Appl. Phys. Lett., 37, 187 (1980)
- L.J. Chen, L.S. Hung, J.W. Mayer, J.E.E. Baglin, J.M. Neri, D.A. Hammer. Appl. Phys. Lett., 40, 595 (1982)
- R.M. Bayazitov, L.Kh. Zakirzyanova, I.B. Khaibullin, I.F. Isakov, A.F. Chachakov. Vacuum, 43, 619 (1992)
- R.M. Bayazitov, L.Kh. Antonova, I.B. Khaibullin, G.E. Remnev. Nucl. Instr. Meth. B, 139, 418 (1998)
- K.J. Reeson, M.S. Finney, M.A. Harry, S.V. Hutchison, Y.S. Tan, D. Leong, T.R. Bearda, Z. Yang, G. Curello, K.P. Homewood, R.M. Gwilliam, B.J. Sealy. Nucl. Instr. Meth. B, 106, 364 (1995)
- A.G. Birdwell, R. Glosser, D.N. Leong, K.P. Homewood. J. Appl. Phys., 89, 965 (2001)
- M. Ferrari and L. Lutterotti. J. Appl. Phys., 76, 7246 (1994)
- K. Oyoshi, D. Lenssen, R. Carius, S. Mantl. Thin Sol. Films, 381, 194 (2001)
- Y. Maeda, K. Umezawa, Y. Hayashi, K. Miyake. Thin Sol. Films., 381, 219 (2001)
- K. Lefki, P. Muret, E. Bustarret, N. Boutarek, R. Madar, J. Chevrier, J. Derrien, M. Brunel. Sol. St. Commun., 80, 791 (1991)
- J. Pankove. Optical processes in Semiconductors (N.Y., Dover, 1971) p.34
- Z. Yang, K.P. Homewood, M.S. Finney, M.A. Harry, K.J. Reeson. J. Appl. Phys., 78, 1958 (1995)
- V. Daraktchieva, M. Baleva, E. Goranova, Ch. Angelov. Vacuum, 58, 415 (2000)
- F. Urbach. Phys. Rev., 92, 1324 (1953)
- Z. Yang, K.P. Homewood. J. Appl. Phys., 79, 4312 (1996)
- Н.А. Дроздов, А.А. Патрин. Письма ЖЭТФ, 23, 651 (1976)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.