Вышедшие номера
Исследование барьерных структур In/PbTe с промежуточным тонким диэлектрическим слоем
Александрова О.А.1, Ахмеджанов А.Т.1, Бондоков Р.Ц.1, Мошников В.А.1, Саунин И.В.1, Таиров Ю.М.1, Штанов В.И.2, Яшина Л.В.2
1Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
2Московский государственный университет им. М.В. Ломоносoва, Москва, Россия
Поступила в редакцию: 1 июня 2000 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2000 г.

Эпитаксиальные слои n-PbTe были выращены из газовой фазы методом горячей стенки на подложках из монокристаллического BaF2 111. Выращенные слои выдерживались на воздухе в течение 15-30 дней, после чего напылялся In и защитный слой BaF2. На изготовленных таким образом барьерных структурах In/n-PbTe измерялись вольт-амперные и фотоэлектрические характеристики в диапазоне T=80-300 K. Анализ экспериментальных результатов позволил предложить модель механизма токопереноса и определить эффективную высоту барьера varphibeff, толщину диэлектрической прослойки delta и плотность поверхностных состояний DS.