Вышедшие номера
Особенности формирования внедрений InxGa1-xN в матрице GaN при выращивании методом MOCVD
Сошников И.П.1, Лундин В.В.1, Усиков А.С.1, Калмыкова И.П.1, Леденцов Н.Н.1, Rosenauer A.2, Neubauer B.2, Gerthsen D.2
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Laboratorium fur Elektronenmikroskopie, Universitat Karlsruhe, Germany
Поступила в редакцию: 29 декабря 1999 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2000 г.

Проведено исследование методами просвечивающей электронной микроскопии гетероструктур с одним или несколькими слоями InxGa1-xN в матрице GaN, выращенных методом газофазной эпитаксии из металлорганических соединений (MOCVD). Показано, что в гетероструктурах с толстыми слоями InGaN (~40 нм) наблюдается образование некогерентной системы слоистых доменов с характерными латеральными размерами порядка толщины слоя (~50 нм). В случае сверхтонких внедрений InGaN формируются нанодомены, когерентные с матрицей GaN. Определенное с помощью DALI-методики содержание In в островках достигает значений x~0.6 и более, что существенно выше, чем среднее содержание индия. Плотность образующихся нанодоменов в исследованных структурах составляет n~(2-5)·1011 см-2. В структурах со сверхтонкими внедрениями InGaN отмечено образование нанодоменов с двумя характерными размерами (3-6 и 8-15 нм).