Вышедшие номера
Влияние зарядового состояния дефектов на индуцированную светом кинетику фотопроводимости аморфного гидрированного кремния
Голикова О.А.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 29 мая 1997 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 1998 г.

Проведены исследования фотопроводимости и плотности дефектов в пленках нелегированного a-Si : H под воздействием света (W=114 мВт / см2, lambda<0.9 мкм) в течение 5 ч. Показано, что sigmaph~ t-gamma и ND~ tbeta, причем gamma>beta или gamma~=beta в зависимости от положения уровня Ферми до засветки, т. е. в зависимости от зарядового состояния дефектов: D- и D0 или D+ и D0. Показано также, что на индуцированную светом кинетику sigmaph влияет переход дефектов в состояние D0 за счет соответствующего сдвига уровня Ферми при засветке.