Вышедшие номера
Фотоэлектрическая память в многослойных структурах с квантовыми ямами на основе GaAs / AlGaAs
Овсюк В.Н., Демьяненко М.А., Шашкин В.В., Торопов А.И.
Поступила в редакцию: 1 апреля 1997 г.
Выставление онлайн: 20 января 1998 г.

Обнаружено возрастание темнового тока на 2/3 порядка в многослойных структурах с квантовыми ямами GaAs/AlxGa1-xAs при x~= 0.4 после освещения структур оптическим излучением (lambda<1.3 мкм), сохраняющееся в течение длительного времени (свыше 103 c) при пониженных температурах и уменьшающееся вплоть до исходного значения после нагревания образца. Предложена модель барьера с локальным провисанием зоны проводимости, облегчающим туннелирование электронов. Величина провисания и ток возрастают при ионизации присутствующих в барьере локальных скоплений неконтролируемых глубоких уровней и уменьшаются в процессе захвата на них электронов зоны проводимости при нагреве образца.