Вышедшие номера
Высокоразрешающие рентгенодифракционные исследования сверхрешеток InAs--GaAs, выращенных молекулярно-лучевой эпитаксией при низкой температуре
Фалеев Н.Н.1, Чалдышев В.В.1, Куницын А.Е.1, Преображенский В.В.2, Путято М.А.2, Семягин Б.Р.2, Третьяков В.В.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 28 июля 1997 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 1997 г.

Методом высокоразрешающей рентгеновской дифрактометрии исследованы сверхрешетки InAs-GaAs, выращенные молекулярно-лучевой эпитаксией при низкой температуре. Показано, что, несмотря на очень высокую концентрацию точечных дефектов, обусловленных наличием избыточного мышьяка, исходная сверхрешетка обладает высоким кристаллическим совершенством. Анализ изменений рентгенодифракционных кривых показал, что высокотемпературный отжиг, сопровождающийся образованием кластеров As и диффузией индия, приводит к значительным структурным преобразованиям в матрице GaAs и на интерфейсах.