Вышедшие номера
Высокотемпературный отжиг и ядерное легирование GaAs, облученного реакторными нейтронами
Брудный В.Н.1, Колин Н.Г.2, Новиков В.А.1, Нойфех А.И.2, Пешев В.В.1
1Сибирский физико-технический институт им. акад. В.Д. Кузнецова Томского государственного университета, Томск, Россия
2Филиал научно-исследовательского физико-химического института им. Л.Я.Карпова, Обнинск, Россия
Поступила в редакцию: 21 января 1996 г.
Выставление онлайн: 19 июня 1997 г.

Исследованы электрофизические свойства и спектр глубоких ловушек в GaAs при термообработке, нейтронном облучении и последующем отжиге до Tann=1100 oC. Показано, что при Tann>900 oC в GaAs интенсивно формируются термоакцепторы, что приводит к ухудшению свойств ядерно-легированного материала. Проведены оценки коэффициента использования примеси при ядерном легировании GaAs в зависимости от Tann и интегрального потока нейтронов. Приведены параметры глубоких ловушек в исследованном материале.