Вышедшие номера
Пробой барьера Шоттки в Si, стимулированный дрейфом экситонов в неоднородном электрическом поле при 4.2 K
Мусаев А.М.1
1Институт физики им. Х.И. Амирханова Дагестанского научного центра РАН, Махачкала, Россия
Поступила в редакцию: 6 февраля 1996 г.
Выставление онлайн: 20 мая 1997 г.

Приводятся результаты экспериментального обнаружения и исследования механизма стимулирования пробоя барьера Шоттки на кремнии, фотовозбужденного в сильных электрических полях при T=4.2 K. Исследовано влияние интенсивности фотовозбуждения, величины электрического поля, а также влияние времени их взаимной задержки на механизм пробоя барьера. На основе анализа результатов показано, что пробой барьера Шоттки связан с сужением ширины области пространственного заряда вследствие дрейфа экситонов в неоднородном электрическом поле и рекомбинации электронов на ионизированных примесных уровнях барьера.
  1. Э.Х. Родерик. Контакты металл--полупроводник (М., Радио и связь, 1982)
  2. В.И. Стриха, Е.В. Бузанева, И.А. Радзиевский. Полупроводниковые приборы с барьером Шоттки (М., Сов. радио, 1974)
  3. Б.М. Ашкинадзе, Ф.К. Султанов. Письма ЖЭТФ, 16, 271 (1972)
  4. R.B. Hamond, R.N. Silver. Appl. Phys. Lett., 36, 68 (1980)
  5. W. Schmid. Phys. St. Sol. (b), 84, 529 (1977)
  6. З.С. Грибников. ФТТ, 11, 2111 (1977)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.