Вышедшие номера
Природа отрицательного дифференциального сопротивления неидеального барьера Шоттки на основе арсенида индия
Каламейцев А.В.1, Романов Д.А.1, Ковчавцев А.П.1, Курышев Г.Л.1, Постников К.О.1, Субботин И.М.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 10 января 1996 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 1997 г.

Теоретически и экспериментально исследованы процессы упругого туннелирования в МДП структурах с барьером Шоттки на основе p+-InAs. При гелиевых температурах получены вольт-амперные характеристики с участком отрицательного дифференциального сопротивления. На основе квазиклассического приближения получены аналитические выражения для коэффициента туннельного прохождения с конверсией носителей. Показано, что падающий участок ВАХ связан с участием в процессе туннелирования вышележащего уровня размерного квантования в n-канале. Полученные расчетные вольт-амперные характеристики хорошо согласуются с результатами эксперимента.