"Физика и техника полупроводников"
Вышедшие номера
Влияние ионно-лучевой обработки в процессе реактивного высокочастотного магнетронного распыления на макронапряжения ITO пленок
Крылов П.Н.1, Закирова Р.М.1, Федотова И.В.1
1Удмуртский государственный университет, Ижевск, Россия
Поступила в редакцию: 15 октября 2013 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2014 г.

Прозрачные проводящие пленки оксида индия, легированного оловом, получены методом чередующихся процессов реактивного ВЧ магнетронного распыления и ионной обработки. Рентгенографически исследованы напряженные состояния ITO пленок. Показано влияние технологических режимов на изменение макронапряжений в пленках ITO.
  1. А.П. Достанько, С.М. Завадский, Д.А. Голосов, М.В. Евстафьева, Ли Динь Ви. Тез. док. VII Междунар. науч.-техн. конф. (Минск, 2012) с. 80
  2. J.C.C. Fan. Appl. Phys. Lett., 34, 515 (1979)
  3. W.F. Wu, B.S. Chiou. Thin Sol. Films, 247, 201 (1994)
  4. L. Kerkache, A. Layadi, E. Dogheche, D. Remiens. J. Phys. D: Appl. Phys., 39, 184 (2006)
  5. W. Wohlmutha, I. Adesida. Thin Sol. Films, 479, 223 (2005)
  6. H.J. Kim, J.W. Bae, J.S. Kim, K.S. Kim, Y.C. Jang, G.Y. Yeom, N.-E. Lee. Thin Sol. Films, 377-- 378, 115 (2000)
  7. В.А. Зиновьев. Автореф. канд. дис. (Новосибирск, 2004)
  8. N.A.G. Ahmed. Surf. Coat. Technol., 71, 82 (1995)
  9. C.A. Davis. Thin Sol. Films, 226, 30 (1993)
  10. А.Р. Шунгуров, А.В. Панин. Физ. мезомеханика, 12 (3), 23 (2009)
  11. В.М. Ветошкин, Р.М. Закирова, П.Н. Крылов. ВТТ, 21 (1), 57 (2011)
  12. П.Н. Крылов, Р.М. Закирова, И.В. Федотова, Ф.З. Гильмутдинов. ФТП, 47 (6), 859 (2013)
  13. С.С. Горелик, Ю.А. Скаков, Л.Н. Расторгуев. Рентгенографический и электроннографический анализ (М., МИСИС, 2002)
  14. А.И. Бажин, А.Н. Троцан, С.В. Чертопалов, А.А. Стипаненко, В.А. Ступак. ФИП, 10 (4), 342 (2012)
  15. Z. Qiao, R. Latz, D. Mergel. Thin Sol. Films, 466, 250 (2004)
  16. Е.В. Берлин, Л.А. Сейдман. Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии (М., Техносфера, 2010)
  17. N. Boonyopakorn, N. Sripogpun, C. Thanachayanont, S. Dangtip. Chin. Phys. Lett., 27 (10), 108 103 (2010)
  18. P. Mohan Babu, B. Radhakrishna, G. Venkata Rao, P. Sreedhara Reddy, S. Uthanna. J. Optoelectron. Adv. Mater., 6 (1), 205 (2004)
  19. A. Uv zupis, B. Vengalis, V. Lisauskas, S. Tamuleviv cius, L. Augulis. Mater. Sci. (Medv ziagotyra), 12(4), 297 (2006)
  20. L.-J. Meng, J. Gao, V. Teixeira, M.P. dos Santos. Phys. Status Solidi A-applications and Mater. Sci., 205 (8), 1961 (2008)
  21. K. Seshan. Handbook of Thin-Film Deposition Processes and Technologies (N.Y., Noyes Publication, 2002) chap. 11
  22. А.И. Калиниченко, С.С. Перепелкин, В.Е. Стрельницкий. ВАНТ, 91 (6), 116 (2007)
  23. A.R. Gonzalez-Elipe, F. Yubero, J.M. Sanz. Low Energy Ion Assisted Film Growth (London, Imperial College Press, 2003)
  24. В.И. Павленко, С.Н. Слепцов, В.И. Сафонов. ВАНТ, 93 (2), 31 (2009)
  25. П.Н. Крылов, Р.М. Закирова, И.В. Федотова. ФТП, 47 (10), 1421 (2013)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.