Вышедшие номера
Эпитаксиальные слои InAsSbP с предельным содержанием фосфора, изоморфные с подложкой InAs
Романов В.В.1, Байдакова М.В.1, Моисеев К.Д.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 8 октября 2013 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2014 г.

Представлены экспериментальные результаты наращивания многокомпонентных твердых растворов InAs1-x-ySbyPx для составов 0.43<x<0.72 методом газофазной эпитаксии из металлорганических соединений при низкой температуре осаждения (T<520oC) с использованием металлорганического источника мышьяка. Предложена модель роста эпитаксиального слоя InAsSbP, изоморфного с подложкой InAs, при заданном значении соотношения концентрации фосфора и сурьмы в твердой фазе.