Краевая люминесценция твердых растворов AlN--GaN
Зубрилов А.С.1, Цветков Д.В.1, Николаев В.И.1, Никитина И.П.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 27 декабря 1995 г.
Выставление онлайн: 20 октября 1996 г.
Исследовалось влияние состава и кристаллической структуры на люминесценцию эпитаксиальных слоев твердых растворов 2H-AlxGa1-xN (0=< x=<0.3), выращенных на подложках 6H-SiC с подслоем GaN. Получена зависимость полуширины рентгеновской кривой качания для системы AlGaN от содержания AlN в твердом растворе. Из анализа спектров катодолюминесценции определена зависимость положения полосы люминесценции вблизи края собственного поглощения от состава твердого раствора AlxGa1-xN при T=300 K: E(x)=3.39+2.19x+0.65x2 (эВ). Изучена зависимость уширения этой полосы при увеличении содержания AlN в твердом растворе. Экспериментальные данные интерпретировались на основе модели уширени краевой полосы люминесценции за счет статистически неупорядоченного распределения компонентов твердого раствора. Показано, что этот механизм приводит к существенно большим уширениям краевой полосы люминесценции для системы AlGaN по сравнению с более узкозонными твердыми растворами AIIIBV. Выявлен эффект влияния подслоя GaN на структурные и люминесцентные свойства слоев AlGaN.
- S. Strite, H. Morkoc. J. Vac. Sci. Technol., B10, 1237 (1992)
- H. Morkoc, D. Strite, G.B. Gao, M.E. Lin, B. Sverdlov, M. Burns. J. Appl. Phys., 76, 1363 (1994)
- I. Akasaki, H. Amano. J. Electrochem. Soc., 141, 2266 (1994)
- S. Nakamura, T. Mukai, M. Senoh. J. Appl. Phys., 76, 8189 (1994)
- Y. Koide, H. Itoh, N. Sawaki, I. Akasaki, M. Hashimoto. J. Electrochem. Soc., 133, 1956 (1986)
- S. Nakamura, Y. Harada, M. Senoh. Appl. Phys. Lett., 38, 2021 (1991)
- N. Yoshimoto, T. Matsuoto, T. Sasaki, A. Katsui. Appl. Phys. Lett., 59, 2251 (1991)
- Б.В. Баранов, В.Б. Гутан, У. Жумакулов. ФТП, 16, 1281 (1982)
- Г.А. Коркоташвили, А.Н. Пихтин, И.Г. Пичугин, А.М. Царегородцев. ФТП, 18, 1462 (1984)
- R.M.H. Khan, Y. Kiode, H. Itoh, N. Sawaki, I. Akasaki. Sol. St. Commun., 60, 509 (1986)
- H.G. Lee, M. Gershenzon, B.L. Goldenberg. J. Electron. Mater., 20, 621 (1991)
- W. Fang, S.L. Chuang. Appl. Phys. Lett., 67, 751 (1995)
- V.A. Dmitriev, K. Irvine, J.A. Edmond, C.H. Carter, Jr. \it Technical Program with Abstracts of the 36th Electronic Materials Conf. (Boulder, Colorado, 1994) A-21
- I. Akasaki, K. Hiramatsu, H. Amano. Memoirs of the Faculty of Engineering, Nagoya Univrsity, 43, 147 (1991); I. Akasaki, H. Amano, Y. Kiode, K. Hiramatsu, N. Sawaki. J. Cryst. Growth. 98, 209 (1989)
- А.Н. Пихтин. ФТП, 11, 425 (1977)
- D.K. Wickenden, C.B. Bargeron, W.A. Bryden, J. Miragliotta, T.J. Kistenmacher. Appl. Phys. Lett., 65, 2024 (1994)
- H.P. Maruska, J.J. Tietjen. Appl. Phys. Lett., 15, 327 (1969)
- M. Leszczynski, T. Suski, H. Teisseyre, P. Perlin, I. Grzegory, J. Jun, S. Porowski, T.D. Moustakas. J. Appl. Phys., 76, 4909 (1994)
- W.M. Yim, E.J. Stofko, P.J. Zanzucchi, J.I. Pankove, M. Effenberg, S.L. Gilbert. J. Appl. Phys., 44, 292 (1973)
- A.S. Barker, M. Ilgems. Phys. Rev., B7, 743 (1973)
- I. Akasaki, H. Hashimoto. Sol. St. Commun., 5, 851 (1967)
- S. Yoshida, S. Misawa, S. Gonda. J. Appl. Phys., 53, 6844 (1982)
- L. Pavesi, M. Guzzi. J. Appl. Phys., 75, 4779 (1994)
- E.F. Schubert, E.O. Gobel, Y. Horikoshi, K. Ploog, H.J. Queisser, Phys. Rev., B30, 813 (1984)
- C. Charreaux, G.Guillot, A. Nouaihat. J. Appl. Phys., 60, 768 (1986)
- J.P. Bergman, B. Monemar, H. Amano, I. Akasaki. \it Techncal Digest of Int'l Conf. On SiC and Related Materials --- ICSCRM'95 (Kyoto, Japan, 1995) p. 287
- T.L. Tansley, R.J. Egan. Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 242, 395 (1992)
- S. Nakajima, T. Yang, S. Sakai. \it Abstracts of Topical on III--V Nitrides TWN'95 (Nagoya, Japan, 1995) P-2
- И.Г. Пичугин. В сб.: \it Проблемы физики и технологии широкозонных полупроводников (Л., ЛИЯФ, 1980) с. 103
- М.П. Шаскольская. \it Кристаллография (М., Высш. шк., 1984) с. 162
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.