Вышедшие номера
Пассивация поверхности GaAs при обработке в парах фосфина
Бедный Б.И.1, Байдусь Н.В.1
1Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
Поступила в редакцию: 29 декабря 1994 г.
Выставление онлайн: 20 января 1996 г.

Показано, что термообработка GaAs в парах фосфина, проведенная in situ в установке для газофазной эпитаксии методом MOCVD, сразу после завершения процесса газофазной эпитаксии приводит к пассивации поверхности эпитаксиального слоя. На фосфидированной поверхности обнаружен эффект "открепления" уровня Ферми, проявляющийся в значительном уменьшении плотности поверхностных состояний и приповерхностного изгиба зон. Электрофизические параметры пассивированной поверхности стабильны при длительном (несколько месяцев) хранении образцов на воздухе. Пассивирующее действие фосфидной обработки обусловлено формированием поверхностного слоя GaP, препятствующего окислению GaAs.